MicroVision Plus 残余气体分析仪

MicroVision Plus这个产品的技术是基于MKS残余气体分析质谱传感头和气体监控系统的核心技术，利用最先进的射频电路模块设计和数据采集电路模块。MicroVision Plus拥有卓越的性能，为要求最严格的应用所需；高稳定的运行、快速和宽范围的动态扫描，使得工艺偏差和气体组成改变的监测变得很容易。

　　MicroVision Plus产品有艺术级的电路模块，并配有最新的气体分析传感头，MicroVision Plus特色是“智能头”技术，电路模块直接装到分析传感头上，通过RS232或RS422连接到系统的电脑。为了满足特殊需要，MKS可提供开放式离子源和超高真空离子源。开放式离子源由不锈钢和高纯氧化铝陶瓷制成，其特点是有相互独立的可替换的双灯丝，提供内建的备用灯丝以延长工作时间而不需破真空（换灯丝）。另外，此可替换的离子源可以清洁和修复，能延长传感头的寿命。超高真空离子源基于低热惰性设计，可快速除汽且少放气，由于嵌入了铂罩，能减少ESD（电子刺激释放）峰的发生。
为抗污染、增强长期稳定性和高质量数灵敏性，MicroVision Plus配有作为标准的预过滤的四极分析头。如需高分辨率和最更大质量数的应用，MKS可提供3级过滤器的分析头。

特色与优点

高稳定性射频和数据采集电路模块，最小温度漂移，快速预热快速大范围动态扫描—工艺成分偏差的快速检测预过滤分析头，提高抗污染和加强高质量数灵敏性

灵活的输入输出性能，方便于机台和其他传感器连接

在微软的Windows软件里运行

. 互动，使用简单，特点俱全

. 有数据记录存储

. 任选的多个分析头同时运行的功能

使用Process Eye2000软件可以：

. 进行先进过程菜单的创建与跟踪

. 菜单有“用户设定”报警功能

. 屏幕可同时显示多个图表

服务用户的设计理念

应用

用于残余气体分析，MicroVision Plus优越的性能，以及其宽范围的设置，使得MicroVision Plus成为很多应用领域理想选择，包括：
超高真空应用，真空镀膜，加速器高能物理

恶劣的环境，如高温和离子辐射

高性能应用，如：

. 高质量数品种的研究与发展

. 高精度的研究，如低分子量

. 分子研究，和不同于氘的氦的研究

基于Windows的RGA（残气分析）控制平台

MicroVision Plus可用基于Windows的RGA（残气分析）控制平台来运行，这是一个直观性好的软件包，被广泛认为容易使用。此控制平台可提供较多数据采集与显示示意图，包括条形图示(Bar Chart)与光谱库比较，Peak Jump(峰值跳跃)，趋势分析和有漏检查。还有一个高速多峰值示意图称“快速扫描”。Windows的RGA(残气分析)控制平台包含一个DDE(动态数据交换)链接，与基于Windows的其他程序交换数据与控制信号。此平台自动运行中有一个很突出的功能，其有一个单独的记忆数据库，既可离线使用，也可与Windows的RGA（残气分析）控制平台同时使用，将以前存储的数据与在线数据做直接对比。另外，MKS能提供运行多传感器的Windows的RGA（残气分析）控制平台，可以同时运行多台MicroVision Plus。